Microscópio industrial Trinocular de inspeção de wafer BS-4020A

Introdução
O microscópio de inspeção industrial BS-4020A foi especialmente projetado para inspeções de wafers de vários tamanhos e PCBs grandes. Este microscópio pode fornecer uma experiência de observação confiável, confortável e precisa. Com estrutura perfeitamente executada, sistema óptico de alta definição e sistema operacional ergonômico, o BS-4020 realiza análises profissionais e atende a diversas necessidades de pesquisa e inspeção de wafers, FPD, pacotes de circuitos, PCB, ciência de materiais, fundição de precisão, metalocerâmica, molde de precisão, semicondutores e eletrônicos etc.
1. Sistema de iluminação microscópica perfeito.
O microscópio vem com iluminação Kohler, fornece iluminação brilhante e uniforme em todo o campo de visão. Coordenado com o sistema óptico infinito NIS45, objetiva de alto NA e LWD, imagens microscópicas perfeitas podem ser fornecidas.

Características


Campo brilhante de iluminação refletida
BS-4020A adota um excelente sistema óptico infinito. O campo de visão é uniforme, brilhante e com alto grau de reprodução de cores. É adequado observar amostras de semicondutores opacos.
Campo escuro
Ele pode realizar imagens de alta definição na observação de campo escuro e realizar inspeção de alta sensibilidade para falhas, como arranhões finos. É adequado para inspeção superficial de amostras com altas demandas.
Campo brilhante de iluminação transmitida
Para amostras transparentes, como FPD e elementos ópticos, a observação do campo claro pode ser realizada pelo condensador de luz transmitida. Também pode ser usado com DIC, polarização simples e outros acessórios.
Polarização simples
Este método de observação é adequado para amostras de birrefringência, como tecidos metalúrgicos, minerais, LCD e materiais semicondutores.
Iluminação refletida DIC
Este método é usado para observar pequenas diferenças em moldes de precisão. A técnica de observação pode mostrar a pequena diferença de altura que não pode ser vista em uma observação comum na forma de relevo e imagens tridimensionais.





2. Objetivos de campo semi-APO e APO Bright de alta qualidade e campo escuro.
Ao adotar a tecnologia de revestimento multicamadas, as lentes objetivas Semi-APO e APO da série NIS45 podem compensar a aberração esférica e a aberração cromática do ultravioleta ao infravermelho próximo. A nitidez, resolução e reprodução de cores das imagens podem ser garantidas. A imagem com alta resolução e imagem plana para várias ampliações pode ser obtida.

3. O painel de operação está na frente do microscópio, fácil de operar.
O painel de controle do mecanismo está localizado na parte frontal do microscópio (próximo ao operador), o que torna a operação mais rápida e prática na observação da amostra. E pode reduzir a fadiga causada pela observação prolongada e pela poeira flutuante trazida por uma grande amplitude de movimento.

4. Cabeça de visualização trinocular inclinável ergonômica.
A cabeça de visualização inclinável Ergo pode tornar a observação mais confortável, de modo a minimizar a tensão muscular e o desconforto causado por longas horas de trabalho.

5. Mecanismo de foco e alça de ajuste fino do palco com posição baixa da mão.
O mecanismo de foco e a alça de ajuste fino do palco adotam o design de posição baixa da mão, que está em conformidade com o design ergonômico. Os usuários não precisam levantar as mãos durante a operação, o que proporciona o maior grau de sensação de conforto.

6. O palco possui uma alça de embreagem embutida.
A alça de embreagem pode realizar o modo de movimento rápido e lento do palco e pode localizar rapidamente amostras de grandes áreas. Não será mais difícil localizar as amostras com rapidez e precisão ao usar a alça de ajuste fino da platina.
7. O estágio superdimensionado (14”x 12”) pode ser usado para grandes wafers e PCB.
As áreas de amostras microeletrônicas e semicondutoras, especialmente wafer, tendem a ser grandes, de modo que o estágio de microscópio metalográfico comum não pode atender às suas necessidades de observação. O BS-4020A possui um palco superdimensionado com uma grande faixa de movimento e é conveniente e fácil de mover. Portanto, é um instrumento ideal para observação microscópica de amostras industriais de grandes áreas.
8. O suporte para wafers de 12” vem com o microscópio.
Wafer de 12 ”e wafer de tamanho menor podem ser observados com este microscópio, com alça de platina de movimento rápido e fino, pode melhorar muito a eficiência de trabalho.
9. A capa protetora antiestática pode reduzir a poeira.
As amostras industriais devem estar longe de poeira flutuante, e um pouco de poeira pode afetar a qualidade do produto e os resultados dos testes. O BS-4020A possui uma grande área de capa protetora antiestática, que pode evitar a entrada de poeira flutuante e queda de poeira, de modo a proteger as amostras e tornar o resultado do teste mais preciso.
10. Maior distância de trabalho e alto objetivo de NA.
Os componentes eletrônicos e semicondutores nas amostras de placas de circuito apresentam diferença de altura. Portanto, objetivas de longa distância de trabalho foram adotadas neste microscópio. Enquanto isso, a fim de satisfazer os altos requisitos das amostras industriais em termos de reprodução de cores, a tecnologia de revestimento multicamadas foi desenvolvida e aprimorada ao longo dos anos e foram adotadas objetivas BF&DF semi-APO e APO com alto NA, que podem restaurar a cor real das amostras. .
11. Vários métodos de observação podem atender a diversos requisitos de teste.
Iluminação | Campo Brilhante | Campo Escuro | DIC | Luz Fluorescente | Luz Polarizada |
Iluminação refletida | ○ | ○ | ○ | ○ | ○ |
Iluminação Transmitida | ○ | - | - | - | ○ |
Aplicativo
O microscópio de inspeção industrial BS-4020A é um instrumento ideal para inspeções de wafers de vários tamanhos e PCBs grandes. Este microscópio pode ser usado em universidades, fábricas de eletrônicos e chips para pesquisa e inspeção de wafers, FPD, pacotes de circuitos, PCB, ciência de materiais, fundição de precisão, metalocerâmica, moldes de precisão, semicondutores e eletrônicos, etc.
Especificação
Item | Especificação | BS-4020A | BS-4020B | |
Sistema Óptico | Sistema óptico com correção de cor infinita NIS45 (comprimento do tubo: 200 mm) | ● | ● | |
Cabeça de visualização | Cabeça Trinocular Inclinável Ergo, ajustável 0-35° inclinada, distância interpupilar 47mm-78mm; relação de divisão ocular: trinocular = 100:0 ou 20:80 ou 0:100 | ● | ● | |
Cabeça Trinocular Seidentopf, inclinada 30°, distância interpupilar: 47mm-78mm; relação de divisão ocular: trinocular = 100:0 ou 20:80 ou 0:100 | ○ | ○ | ||
Cabeça binocular Seidentopf, inclinada 30°, distância interpupilar: 47mm-78mm | ○ | ○ | ||
Ocular | Ocular de plano de campo super amplo SW10X/25mm, dioptria ajustável | ● | ● | |
Ocular de plano de campo super amplo SW10X/22mm, dioptria ajustável | ○ | ○ | ||
Ocular de plano de campo extra amplo EW12.5X/17,5 mm, ajustável em dioptria | ○ | ○ | ||
Ocular de plano de campo amplo WF15X/16mm, ajustável em dioptria | ○ | ○ | ||
Ocular de plano de campo amplo WF20X/12mm, ajustável em dioptria | ○ | ○ | ||
Objetivo | Objetivo Semi-APO do Plano LWD Infinito NIS45 (BF e DF), M26 | 5X/NA=0,15, WD=20mm | ● | ● |
10X/NA=0,3, WD=11mm | ● | ● | ||
20X/NA = 0,45, WD = 3,0 mm | ● | ● | ||
Objetivo APO do plano LWD infinito NIS45 (BF e DF), M26 | 50X/NA = 0,8, WD = 1,0 mm | ● | ● | |
100X/NA = 0,9, WD = 1,0 mm | ● | ● | ||
Objetivo Semi-APO do Plano LWD Infinito NIS60 (BF), M25 | 5X/NA=0,15, WD=20mm | ○ | ○ | |
10X/NA=0,3, WD=11mm | ○ | ○ | ||
20X/NA = 0,45, WD = 3,0 mm | ○ | ○ | ||
Objetivo APO do plano LWD infinito NIS60 (BF), M25 | 50X/NA = 0,8, WD = 1,0 mm | ○ | ○ | |
100X/NA = 0,9, WD = 1,0 mm | ○ | ○ | ||
Porta-objetivas | Porta-objetivas sêxtuplo para trás (com slot DIC) | ● | ● | |
Condensador | Condensador LWD NA0.65 | ○ | ● | |
Iluminação Transmitida | Fonte de alimentação LED de 40W com guia de luz de fibra óptica, intensidade ajustável | ○ | ● | |
Iluminação refletida | Luz refletida Lâmpada halógena 24V/100W, iluminação Koehler, com torre de 6 posições | ● | ● | |
Casa de lâmpada halógena de 100W | ● | ● | ||
Luz refletida com lâmpada LED de 5W, iluminação Koehler, com torre de 6 posições | ○ | ○ | ||
Módulo de campo claro BF1 | ● | ● | ||
Módulo de campo claro BF2 | ● | ● | ||
Módulo de campo escuro DF | ● | ● | ||
Filtro ND6, ND25 integrado e filtro de correção de cores | ○ | ○ | ||
Função ECO | Função ECO com botão ECO | ● | ● | |
Foco | Focagem coaxial grossa e fina de baixa posição, divisão fina 1μm, faixa móvel 35mm | ● | ● | |
Estágio | Estágio mecânico de 3 camadas com alça de embreagem, tamanho 14”x12” (356mmx305mm); faixa móvel 356mmX305mm; Área de iluminação para luz transmitida: 356x284mm. | ● | ● | |
Suporte para wafer: pode ser usado para segurar wafer de 12" | ● | ● | ||
Kit DIC | Kit DIC para iluminação refletida (pode ser usado para objetivas 10X, 20X, 50X, 100X) | ○ | ○ | |
Kit Polarizador | Polarizador para iluminação refletida | ○ | ○ | |
Analisador para iluminação refletida, giratório de 0 a 360° | ○ | ○ | ||
Polarizador para iluminação transmitida | ○ | ○ | ||
Analisador para iluminação transmitida | ○ | ○ | ||
Outros acessórios | Adaptador de montagem C 0,5X | ○ | ○ | |
1X adaptador de montagem C | ○ | ○ | ||
Capa contra poeira | ● | ● | ||
Cabo de alimentação | ● | ● | ||
Corrediça de calibração 0,01 mm | ○ | ○ | ||
Prensador de amostra | ○ | ○ |
Observação: ● Traje Padrão, ○ Opcional
Imagem de amostra





Dimensão

Unidade: mm
Diagrama do sistema

Certificado

Logística
